多通道高真空PECVD系统PEVCD气相沉着系统多通道高低空PECVD系统

产品概述

多通道高真空（可做低真空）PECVD系统，由管式炉，等离子射频电源，分子泵真空系统，多通道气路等组成的等离子化学气相沉积系统；额定温度可以达到1700度，混气系统流量调节可由质量流量计控制（可选浮子流量计），混气路数有2路，3路，4路，5路等相混合，可以将多种气体进行均匀地混气后导入到管式炉内。

产品用途

系统多应用于纳米材料生长，石墨烯生成，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等各种薄膜材料，可制备出的透明导电膜，用作手机触摸屏，平板电脑，传感器，智能穿戴等领域；亦常用于沉积、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和碳纳米管（CNT）、石墨烯材料等。